全光谱椭偏仪是一种用于生物学、材料科学领域的分析仪器。常用来探测薄膜厚度、光学常数、孔隙率以及材料微结构的特性。工作原理是基于椭圆偏振光在样品表面的反射，通过测量反射光的偏振态变化（幅度和相位），来计算或拟合出材料的相关属性。入射光束（通常为线偏振光）的电场可在两个垂直平面上分解为矢量元，反射光或透射光一般是椭圆偏振光。用复数ρ来表示偏振态的变化，其中ψ和∆分别描述反射光 p 波与 s 波振幅衰减比和相位差。通过菲涅耳反射系数 rp 和 rs 以及相关公式，可以计算出材料的折射率 n（真空中的光速与材料中光的传播速度的比值）和消光系数 k（表征材料对光的吸收）等光学常数。

全光谱椭偏仪的主要特点包括：

• 测量精度高：能测量很薄的膜（低至单原子层），精度比干涉法高1-2个数量级；

• 非接触、非破坏性测量：不必特别制备样品，也不损坏样品；

• 可同时测量多个参数：能同时测量膜的厚度、折射率以及吸收率；

• 适用材料广泛：可测的材料包括半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质等；

• 光谱范围可选：从深紫外到红外，不同的光谱范围能提供关于材料的不同信息，可根据被测材料的属性、薄膜厚度及关心的光谱段等因素进行选择，以提升多层探测能力并测试物质对不同波长光波的折射率等。

在选择合适的全光谱椭偏仪时，除了光谱范围，测量速度通常也是一个重要的考虑因素。其测量速度一般由所选择的分光仪器来决定，例如使用单色仪每次只能测试一个波长，速度较慢，但波长比较准确；而利用探测器阵列同时测量整个光谱范围的方式，在需要快速测量时较为常用。

全光谱椭偏仪在众多领域都有应用，如半导体、微电子、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等。它可用于研究半导体集成电路制造、光学镀膜和保护膜、聚合物特性等，也可应用于材料科学、物理、化学等基础研究，以及生物、医药等领域的相关研究。

不同型号的全光谱椭偏仪具有不同的技术指标，例如致东 Radiation椭偏仪的技术指标如下：

致东 Radiation椭偏仪紧凑型膜厚量测设备

●  安装移动迅速便捷

●  适用于所有非金属膜质

●  多样化的应用选择

●  工业标准数据端口

关键词：光谱仪 | 椭偏仪 | 反射仪